花7100万“巨资”，中国公司买回一台光刻机，光刻精度感人！

光刻机是芯片制造过程中，最为核心的设备之一，而光刻机的精度，也决定着芯片的性能和先进程度。由于我国还没有研制出先进光刻机，因此整个半导体产业都受限于人。

目前在全球具备生产先进EUV光刻机的企业只有一家，便是荷兰ASML公司，三星、台积电和中国大陆的中芯国际所使用的光刻机，都是向ASML购买的。

但是受到《瓦森纳协定》的制约，中国大陆公司从未购买过ASML的先进光刻机，能够买到的往往都是比较落后，甚至已经淘汰的DUV光刻机。

日前，国内半导体材料公司晶瑞股份就在ASML公司手里买到了一台光刻机。

根据晶瑞公司发布的声明显示，该公司购入了ASML公司光刻机一台，将用于高端光刻胶项目。

据了解，晶瑞公司采购的这台设备为ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻机，只能用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶，考虑到三星、台积电5nm工艺都已经量产，说明这台光刻机真的很落后。

目前ASML公司官网上列出的沉浸式光刻机，最旧的型号是XT 1965 CI，可以用于20nm以下的工艺。也就是说，晶瑞公司买来的这台光刻机分明就是人家淘汰的产品。

不过晶瑞公司买下这台光刻机，却花了1102.5万美元，相当于7127万人民币，如此昂贵的价格，买回来的还是人家淘汰的东西，说明人家真的不愿意将高端货卖给你。

虽说喜提光刻机一事让人兴奋不已，是ASML公司的光刻机也不假，但这台光刻机和中芯国际那台拖了2年多的EUV光刻机根本不是一回事，中芯国际那台光刻机的价格至少是晶瑞公司这台的10倍。

那为什么晶瑞要花这么大一笔钱买台落后的机器呢？根据晶瑞公司的说法，购买这台光刻机是公司集成电路制造用于高端光刻胶研发项目的必要实验设备，为了研发出更高端的ArF光刻胶。

其实光刻胶跟光刻机一样，都是我国半导体产业卡脖子的环节，光刻胶可以被归于高值耗材一类，随着芯片工艺越来越复杂，出现了双重，甚至三重、四重曝光的技术，意味着制造单个芯片消耗的光刻胶也会增加。

所以晶瑞花巨资购入落后光刻机，意义也是巨大的，如果进展顺利的话，这台光刻机有助于晶瑞将光刻胶产品序列实现到ArF光刻胶的跨越，并能够实现应用于12英寸芯片制造的战略布局。

所以尽管这台光刻机非常落后，价格也不便宜，但这是中国半导体产业的必经之路。我始终坚信，只有脚踏实地的一步步干，未来才有希望不受限于人！

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