众所周知，在芯片生产的环节中，光刻机是非常关键的一环，而我国正因为缺少高精度的光刻机，因此整个芯片产业的发展都受到了巨大的阻力。
事实上在芯片生产中，光刻机只是一款生产设备，而生产芯片的关键材料，其实我国也存在着一大难题，这个难题便是光刻胶。
光刻胶是芯片制造过程中所需要的重要材料，但却长期被日本企业所垄断，价格和产能根本无法得到很好自主控制，特别是近年来我国芯片产业开始高速发展，对于光刻胶的需求就更加明显了。
作为高值耗材的产品，我国每年都需要从海外大量进口光刻胶，随着芯片工艺越来越复杂，出现了双重曝光技术，甚至三重、四重技术，意味着制造单个芯片消耗的光刻胶也会增加。
有数据显示，2019年我国g线/i线光刻胶的自给率仅有20%，KrF光刻胶自给率不足5%，ArF光刻胶则完全依赖进口，这显然是不利于国内半导体产业发展的情况。
如果日企对我国进行出口限制，那影响将是巨大的，在这种情况下，自主研发光刻胶就成为了中国企业正在努力寻求突破的方向，所以近期以来，我们也频频听闻了中国企业在光刻胶技术上取得的新突破。
近日传来一则好消息，继中芯国际续单ASML光刻机后，上海新阳也发布了公告，ASML-1400光刻机设备于今日已进入合作方场地，很快将进入到安装调试等相关工作。
上海新阳采购ASML干法光刻机，主要就是为了加快193nm ArF干法光刻胶产品的开发，毕竟该公司早在2016年底，就已经在立项研发193纳米干法光刻胶了。
不过在此后的很长一段时间里，上海新阳却遭遇到了重重挫折，直到2020年，该公司在光刻胶项目上的投入越发激进，主要也是受到了国家重视半导体产业的影响，如今终于传来了好消息。
按照上海新阳的计划，若项目按进度进行，预计KrF厚膜光刻胶2021年开始实现少量销售，2022年即可实现量产， ArF光刻胶也可在2022年实现少量销售，2023年开始量产。
无独有偶，前不久国内半导体材料公司晶瑞股份也发布公告称，在ASML公司手里买到了一台光刻机，设备型号是XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻机，主要生产最高分辨率达28nm的高端光刻胶。
和上海新阳的情况非常相似，晶瑞公司购买这台光刻机，也是为了研发出更高端的ArF光刻胶，如果进展顺利的话，或许会将国产光刻胶产品序列实现到ArF光刻胶的跨越。
值得一提的是，目前晶瑞公司的KrF光刻胶也已进入到了客户测试阶段。
无论是上海新阳还是晶瑞公司，它们都已经实现了KrF光刻胶的小规模量产，这意味着国内的芯片产业即将迎来新曙光，至少在很多重要的环节上，已经取得了阶段性的突破。
虽然现阶段我们的半导体产业还很落后，但我始终坚信，只要中国企业能够脚踏实地地干下去，就必定可以打破海外的技术封锁，实现半导体产业完全自主。
对于国内的半导体芯片产业，你有什么想说的呢？欢迎在评论区留言，谈谈你的观点。
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